场效应管的特性及常用型号的参数

出处:按学科分类—工业技术 北京出版社《现代综合机械设计手册下》第2733页(670字)

各类场效应管的特性以及场效应管和半导体三极管的比较分别见表8.3-14和表8.3-15。

表8.3-14 各种场效应管的特性比较

表8.3-15 场效应管与晶体三极管的比较

注:rds为场效应管漏源间的交流电阻。

目前应用最广的是以二氧化硅为绝缘层的金属一氧化物—半导体场效应管,简称MOSFET或MOS管。常用场效应管的型号及参数见表8.3-16。使用场效应管时应注意如下事项:

表8.3-16 常用场效应管的型号及参数

①场效应管通常制成漏极与源极可以互换的,但有些产品在制作时已将源极与衬底连在一起,故在使用前应注意检测。

②MOS管中有的产品将衬底引出(有四只管脚),一般说来,P衬底接低电位,N衬底接高电位。

③结型场效应管的栅源电压不允许接反,可以在开路状态下保存。而绝缘栅场效应管在不使用时须将各电极短路,以避免受到外电场的作用而被损坏。

④焊接管脚时,电烙铁必须有外接地线,以屏蔽交流电场。尤其是焊接绝缘栅场效应管时,应在断电后焊接。

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