T005831　气相光刻技术

出处：按学科分类—综合性图书 湖北人民出版社《中国图书大辞典：1949-1992第15册工业技术(上)》第601页（161字）

韩阶平等着。海洋出版社1990年3月版。10万字。分5部分：一、气相法加工SiO₂图形；二、金属膜的气相腐蚀工艺；三、无显影气相光刻技术，不同光源和不同抗蚀剂的无显影光刻特性及原理；四、利用各种粒子对SiO₂表面改性进行图形加工的方法；五、新型光刻胶及无显影光刻催化剂。