结晶罐内糖膏液柱静压的影响

出处：按学科分类—工业技术 轻工业出版社《甜菜制糖工业手册上册》第417页（427字）

结晶罐内无循环时，沿糖膏液柱各点上糖膏的温度随糖膏的深度而增加(见表6－22)。各点上糖膏的沸点温度等于该点压力下水的沸点加上相当于该压力及该糖膏锤度下的沸点升高值。实际生产中，糖膏的循环使罐内的温度尽量趋向一致，然而局部区域的过热，特别是煮糖的后期仍是可能的，因此必须注意：

表6－22 不同糖膏深度对沸点温度及过饱和系数的影响

(1)糖膏在上管板上的最大高度必须有一极限值，不超过1．5～2．0米。

(2)操作应据晶粒大小、防止糖分转化等选择适宜的真空度。

(3)设计结晶罐时必须充分注意物料的循环。

通常，糖膏液柱的选取使下管板处沸点升高值不超过10℃。