T005908　固体电子学中的等离子体技术

出处：按学科分类—综合性图书 湖北人民出版社《中国图书大辞典：1949-1992第15册工业技术(上)》第610页（299字）

钱振型主编。

电子工业出版社1987年11月版。52万字。系统、全面地阐述低温等离子体技术的原理、特性及其应用，分12章。

首先介绍低温等离子体的形成过程、基本特性和诊断方法，即气体放电中的物理过程、辉光放电和低温等离子体及低温等离子体的诊断；然后依次介绍各种已经或将要在半导体工业中获得应用的低温等离子体技术，包括溅射技术机理和应用、溅射镀膜装置及其设计原理、等离子体刻蚀和反应离子刻蚀、反应离子刻蚀系统及其设计原理、等离子体化学气相淀积、等离子体显影、等离子体阳极化和等离子体聚合等。除阐明它们的基本原理、技术要点和典型应用外，还介绍了新的进展。