工业产权法律制度对半导体产品拓扑图的保护

出处：按学科分类—政治、法律 中山大学出版社《澳门特别行政区法律通览》第285页（841字）

根据《工业产权法律制度》第一百三十八条：“半导体产品拓扑图系指显示该产品含有之各层面之三维配置之一系列被固定或被编码之互连图像，在该系列图像中，每一图像须包含同一产品之某表面在产品之任一制造阶段中之配置或部分配置。”而在本法中，“半导体产品系指同时符合下列条件之任何产品之最终或中间状态：①由含有一个半导体层面之一项材料组成；②包含一个或多个由导体、绝缘体或半导体组成及按一项预置三维模式配置之层面；③用于执行某种电子功能，不论属单独执行或在与其他功能结合下执行某种电子功能”。

半导体产品拓扑图是一种图像，但是该种图像不具有“艺术性”，也不表现某种思想，因此不适宜适用着作权法的保护。拓扑图尽管需要专家的大量劳动，但设计方案不会有多大的改变，其设计的主旨在于提高集成度、节约材料、降低能耗，因此不具备包含发明活动的专门要求，因此，适用专利法对其进行保护也不大合适。⁽¹⁾但是，拓扑图也是一种重要的智力成果，其设计需要相当的人力物力投入，如果不对其进行保护，不利于拓扑图的开发设计。为此，各国都有专门的立法对其进行保护。《工业产权法律制度》也在发明、设计及新型之外专门列出一章对其进行保护。该法第一百三十六条具体指出：“①作为创作者之智力成果且非属半导体工业领域常规设计之半导体产品拓扑图，方得通过获发拓扑图登记证书而成为本法规之保护对象。②由半导体工业领域之常规组件组成之拓扑图，只要作为该等常规组件组合之整体符合上款所指之条件，即同样受到法律保护。③上述保护仅包括电路之布局设计，而不包括被结合在拓扑图内之任何构思、方法、系统、技术或已被编码之信息。”